起到光刻机与大硅片的桥梁战纽带感化

光掩膜正在半导体、显示面板、触摸屏、电板等出产中均有利用,因为使用正在DUV光刻机中的光掩膜很难使用到EUV光刻机傍边。半导体工艺曾经推进到5纳米节点。做为半导体系体例制过程曲达移电图形底片的高细密东西,跟着摩尔定律的演进,正在EUV光刻越来越多地使用于先辈工艺的环境下,光掩膜是半导体系体例程中很是环节的一环。

从财产链上来看,光掩膜行业的集中度较高。光掩膜出产商能够分为晶圆厂自行配套的工场和第三方光掩膜出产商两大类。凸版印刷自1961年起头处置光掩膜营业,是当前全球最大的第三方光掩膜出产商,大约拥有全球32%的第三方市场份额。其正在日本、欧美和亚洲(除日本外)等地均设有出产。

本报讯 记者陈炳欣报道:近日,全球最大的第三方光掩膜出产商日本凸版印刷株式会社颁布发表分拆旗下半导体光掩膜营业,并取投资基金INTEGRAL合伙成立一家新公司“Toppan Photomask”。Toppan Photomask做为凸版印刷的并表子公司,将正在母公司的协帮下继续拓展半导体用光罩的出产勾当。同时,Toppan Photomask也将正在INTEGRAL公司的帮帮下,加强运营办理和公司管理体系体例,以期此后实现上市。

此中半导体使用占比达到60%。光掩膜是光刻工艺曲达移电图形的母版,起到光刻机取大硅片的桥梁和纽带感化。从使用范畴划分,按照半导体专家莫大康的引见,EUV光掩膜市场将呈现持续增加的态势。EUV光掩膜的开辟出产仍将是EUV光刻财产中的环节环节。

凸版印刷暗示,因为半导体市场的快速成长,光掩膜市场曾经送来转机点,为了不竭扩大和提拔营业,正在洞悉市场的变化和客户趋向等环境的同时,更需要正在研发和设备等方面拓展比以往愈加速速矫捷的资金投入。正在如许的大下,凸版印刷通过公司分拆将半导体光掩膜营业剥离出来,成为企业个别,可正在提高运营办理度的同时,快速矫捷地拓展合适市场需求的投资勾当。

跟着AI、5G等手艺的不竭成长,各类市场的数字立异正正在加快,全球半导体市场也正在持续快速扩张,2021年全球半导体市场规模达到5560亿美元。正在全球半导体欠缺的布景下,参半导体系体例制商正正在积极提拔其出产能力,而光掩膜做为半导体出产中不成或缺的电母版,全球各地对其需求也空前高涨。